双面打印革命！森泓技术攻克同步喷墨渗透难题

《正反张力差归零！森泓双面同步喷墨技术缩短工期70%》

专利突破
2025年6月10日，苏州森泓技术公开专利“基于墨量优化的双面喷墨打印方法”（公开号CN120116630A），首创相向运动打印架构：

• 双小车协同：第一、第二打印小车在驱动机构控制下同步反向运动，正反面同时喷墨

• 墨量优化算法：根据基材吸水率动态分配正反面色墨比例（如卡纸正面+10%墨量补偿）

• 张力控制：消除传统翻转导致的基材变形，套印误差≤0.05mm

客户实测
某说明书印刷企业采用TK-3200G双面机后：

• 生产节拍从8小时/万册→2.5小时/万册

• 纸张损耗率由12%降至1.8%

技术壁垒
该方案需精密同步直线电机（误差<1μs），目前仅日本THK、苏州汇川可量产供应。